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Home > Product > Special material and tools
特殊材料與設備相關 > Sputtering Target Materials

Sputtering Target Materials

Application:
Solar Cell, Semiconductor IC-Bump, Memory 太陽電池、半導體IC用
Description:
 
Development of mother alloys for use in vacuum vapor deposition and distinctive materials for use in sputtering targets.
Specification: Mo,Mo alloy,Nialloy,Ag alloy/Ti-W,W,Silicide
   
濺鍍靶材 鉬(Mo),鈦鎢(Ti/W)
 
1.  使用真空濺渡用母合金來配合各種需求
2 . 大幅改善耐湿性
3 . 卓越的etching控制性
 
スパッタリング用ターゲット材―配線、バリア膜用MoNb合金
 
1. 真空蒸着用母合金を開発し、数々のニーズにお応えします。
2.    耐湿性を大幅に改善
3.    優れたエッチング制御性
Feature:
 

晶呈科技股份有限公司 Ingentec Corporation
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